摘要 |
Bei einer Vakuumbeschichtungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate (3, 3', ...), mit einer Eintrittskammer (4), mindestens einer weiteren Kammer (5) zur Behandlung der Substrate (3, 3', ...) und mit einer Austrittskammer (4) sowie mit einer in einer evakuierbaren Transportkammer (6) angeordneten Fördereinrichtung (7) zum Transport der Substrate (3, 3', ...) durch die Kammern (4, 5, 6), ist eine Fördereinrichtung (7) vorgesehen, die um eine gemeinsame Achse (8) herum angeordnet und um diese schwenkbare Halterungen (9, 10) aufweist, wobei in wenigstens zwei Positionen, nämlich einer Ein- und Austrittsposition und einer Behandlungsposition die Halterungen (9, 10) jeweils eine Hubbewegung gegenüber der Wand (11) der Transportkammer (6) ausführen, wobei diese Hubbewegung in der ersten Position so bemessen ist, daß die Halterung (10) in der angehobenen Position die Öffnung (17) der Ein/Austrittskammer (4) in der Wand (11) der Transportkammer (3) verschließt, wobei auf jede Halterung (9, 10) jeweils ein topfförmiger Behälter (12, 13) zur Aufnahme eines Substrates (3, 3', ...) aufsetzbar ist und die Halterung (9) im Bereich der Behandlungsposition (5) den Behälter (12) soweit anhebt, daß der obere Rand (16) des Behälters (12) sich dichtend an den Rand (14) der Öffnung für die Behandlungskammer (5) anlegt.
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