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发明名称 Forming an insulation layer, for example in an active matrix device.
摘要
申请公布号 EP0387892(B1) 申请公布日期 1995.06.14
申请号 EP19900104984 申请日期 1990.03.16
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人 NASU, YASUHIRO, C/O FUJITSU LIMITED;OKAMOTO, KENJI, C/O FUJITSU LIMITED;WATANABE, JUN-ICHI, C/O FUJITSU LIMITED;ENDO, TETSURO, C/O FUJITSU LIMITED;SOEDA, SHINICHI, C/O FUJITSU LIMITED
分类号 H01L29/78;B82B1/00;G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/28;H01L21/316;H01L21/336;H01L21/77;H01L21/84;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/316;G02F1/136;C23C16/40 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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