发明名称 含有氟代烷基(伸烷基)之邻–伸苯基二胺类
摘要 含有氟代烷基(伸烷基)之下式新颖邻-伸苯基二胺类化合物□ (Ⅰ)其中所使用之代号系具有详细说明中之定义,其制法及其做为中间物之用途。
申请公布号 TW249223 申请公布日期 1995.06.11
申请号 TW082108617 申请日期 1993.10.18
申请人 拜耳厂股份有限公司 发明人 巴伯德;马艾柏;黎弗克
分类号 C07C211/44;C07C217/84;C07C255/58 主分类号 C07C211/44
代理机构 代理人 蔡中曾 台北巿敦化南路一段二四五号八楼
主权项 1.一种含有氟代烷基(伸烷基)之式(I)邻-伸苯基二 胺其 中RC^1C系表CFC_3C,OCFC_3C,SCFC_3C,SOC_2C--CC_1C --CC_6C--烷基,其可为直链或支链,且可完全或部份 为 氟,N(CFC_3C)C_2C,苯基或第四位置上含有CFC_3C或CN 之苯氧基所取代,倘有必要,可各自独立地为下述 取代基 所取代:1,1,2,3,3,3--六氟丙氧基,1,1,2--三 氟--2--氯乙氧基,1,1,2,2--四氟乙氧基,1,1,2-- 三氟--2--氯乙硫基,或1,1,2,3,3,3--六氟丙硫基 ,RC^2C系表F,Cl,Br,CN,CHC_3C,OCFC_3C,SOC_2C- -CC_1C--CC_6C--烷基,其可为直链或支链,且可完全或 部份为氟,COO--CC_1C--CC_6C--烷基,COOCC_6CHC_5C, 1,1,2,2--四氟乙氧基,1,1,2,3,3,3--六氟丙氧 基,或1,1,2--三氟--2--氯乙氧基所取代,以及RC^3C 系表氢,COCHC_3C或COCFC_3C,RC^1C及RC^2C亦可一起表 --O--CFCl--CFCl--O--基团,惟下列化合物除外:式(I) 中同时地RC^1C代表CFC_3C,OCFC_3C,1,1,2--三氟--2 --氯乙氧基或1,1,2,2--四氯乙氧基,RC^2C代表F,Cl ,Br,CHC_3C,OCFC_3C,1,1,2,2--四氟乙氧基或1, 1,2--三氟--2--二氯乙氧基且RC^3C代表氢之化合物。2 .如申请专利范围第1项含有氟代烷基(伸烷基)之邻 --伸 苯基二胺,其特征系在于RC^3C系表氢,且RC^1C及RC^2C 于所述之位置上系具有以下之定义3.一种含有氟 代伸烷基之式(I')邻-伸苯基二胺其中RC^3 C系具有如申请专利范围第1项之定义。4.一种制备 如申请专利范围第1项含有氟代烷基(伸烷基) 之邻--伸苯基二胺的方法,其中RC^1C及RC^2C系各表相 对 于胺基第4及5位置上之推电子基DC^1C及DC^2C,且RC^3C 系表氢,其特征系在于二硝化式(II)之苯衍生物其 中DC^1 C系表CFC_3CO,CFC_3CS,CHFC_2CCFC_2CO,CHFCl--CFC_ 2CO,CFC_3CCHFCFC_2CO,CFC_3CCFC_2CO,CFC_3CCFC_2C CFC_2CO,CFC_3CCFC_2CS或CFC_3CCHFCFC_2CO,且DC^2C 系表CFC_3CO,CFC_3CS,CHFC_2CCFC_2CO,CHFCl--CFC_2 CO,CFC_3CCHFCFC_2CO,CFC_3CCFC_2CO,CFC_3CCFC_2CS 或CFC_3CCHFCFC_2CO,氟,氯,溴,CC_1C--CC_6C--烷基 或CC_1C--CC_6C--烷氧基,然后将硝基还原以得到其中 RC ^1C及RC^2C于相对于胺基第4及第5的位置上且具有DC^ 1C 及DC^2C之定义之式(I)化合物。5.如申请专利范围第 4项之方法,其特征系在于双硝化系 以HNOC_3C/HC_2CSOC_4C混合物,且于如0至100℃之温度 进行之,倘有必要,该混合物亦可含于发烟硫酸;还 原反 应可于50至100℃之温度,且在氢氯酸水溶液及乙醇 之存 在下,以铁进行之,或于25至100℃之温度及1至50巴之 压 力,于选自周期表第VIII族中之金属或金属化合物 的存在 下,以元素氢催化性进行之。6.一种制备如申请专 利范围第1项含有氟代烷基(伸烷基) 之邻--伸苯基二胺的方法,其中RC^1C系如申请专利 范围 第1项所界定者,且位于相对于胺基之第4位置上,RC^ 2C 系表Cl或Br,且位于相对于胺基之第5位置上,且RC^3C 系 表氢,其特征系在于将式(III)硝基苯衍生物与氨反 应其 中RC^1C系如式(I)中之界定,且Hal系表氟,氯或溴,因 而将Hal基团置换成胺基,以及还原所得到之硝基苯 胺。7.如申请专利范围第6项之方法,其特征系在于 与氨之反 应系于一压力容器中,及于80至200℃之温度下,且于 水 及四烷基铵盐之存在下,以液态氨进行之。8.一种 制备如申请专利范围第1项含有氟代烷基(伸烷基) 之邻--伸苯基二胺的方法,其中RC^1C系如申请专利 范围 第1项所界定者,RC^2C系表Cl或Br,且位于相对于胺基 之第6位置上,且RC^3C系表氢,其特征系在于将式(Ⅳ) 之 硝基苯胺与氯化剂或溴化剂反应其中RC^1C系如申 请专利 范围第1项所界定者,接着将硝基还原之。9.一种制 备如申请专利范围第1项含有氟代烷基(伸烷基) 之邻--伸苯基二胺的方法,其中RC^1C系为一推电子 基DC^ 1C,且位于相对于两个胺基之第4位置上,RC^2C系表一 拉 电子基A,且RC^3C系不同于氢,其特征系在于将式(Ⅴ) 之 苯衍生物单硝化其中DC^1C系如申请专利范围第4项 所界 定者,以及A系表CFC_3C,SOC_2C--CC_1C--CC_6C--烷基 ,其可为直链或支链,且可完全或部份为氟,COO--CC_1C --CC_6C--烷基或CN所取代,将NOC_2C基团还原成NHC_2C ,醯化NHC_2C基团,再次单硝化所形成之化合物,再将 NO
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