METODO PARA REVESTIR SUSTRATOS CON COMPUESTOS A BASE DE SILICIO.

摘要

UN METODO PARA DEPOSITAR PELICULAS FINAS DE COMPUESTOS CON BASE DE SILICIO, PARTICULARMENTE DIOXIDO DE SILICIO, MEDIANTE PULVERIZACION CATODO REACTIVA, QUE UTILIZA UN MAGNETRON CILINDRICO ROTATORIO (20) IMPULSADO POR UN POTENCIAL DE C.A. (30). EL RESULTADO ES UNA TECNICA DE FORMACION DE UNA PELICULA UNIFORME EN SUSTRATOS GRANDES (12) CON VELOCIDADES ALTAS DE DEPOSICION. LA FORMACION DE CHISPAS NORMALMENTE ASOCIADA CON LA PULVERIZACION DIFICULTOSA EN RECUBRIMIENTOS DIELECTRICOS TALES COMO OXIDOS DE SILICIO, SE ELIMINA SUSTANCIALMENTE.