SIMPLIFICATION OF METALIZATION USING Ti/TiSi2 LAYER AS CONTACT BARRIER,申请号KR1019910021449-传众专利搜索

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发明名称	SIMPLIFICATION OF METALIZATION USING Ti/TiSi2 LAYER AS CONTACT BARRIER
摘要
申请公布号	KR1019950005259(B1)	申请公布日期	1995.05.22
申请号	KR1019910021449	申请日期	1991.11.27
申请人		发明人
分类号		主分类号
代理机构		代理人
主权项
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