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发明名称 Antireflex-Belag für Photolithographie.
摘要
申请公布号 DE3852057(T2) 申请公布日期 1995.05.11
申请号 DE19883852057T 申请日期 1988.04.15
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES, INC., SUNNYVALE, CALIF., US 发明人 ARNOLD, WILLIAM H., III, CUPERTINO CALIFORNIA 94104, US;FARNAAM, MOHAMMAD, NO. 349 SANTA CLARA, CALIFORNIA 95051, US;SLIWA, JACK, LOS ALTOS HILLS CALIFORNIA 94022, US
分类号 H01L21/027;G03C5/00;G03F1/00;G03F1/14;G03F7/09;G03F7/11;G03F7/26;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/09 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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