| 摘要 |
<p>Lors de la vaporisation par bombardement d'électrons effectuée en relation avec une décharge en arc, il survient fréquemment des taches focales de cathode qui génèrent la formation de gouttelettes. Ces dernières altèrent considérablement la qualité des couches. Selon l'invention, un faisceau électronique à grande énergie qui peut être dévié périodiquement est déplacé sur le produit de vaporisation afin de constituer une zone chauffée de manière quasi uniforme dans laquelle le taux de vaporisation est élevé. Une décharge en arc est amorcée dans cette zone, qui se développe de manière diffuse et s'étend sur toute cette zone. Une part importante de la vapeur dégagée est ionisée. Pendant le déroulement du processus, on n'achemine pas de gaz de traitement. L'invention s'utilise pour recouvrir des composants, des outils et des feuillards, y compris de manière réactive.</p> |
