| 发明名称 |
PROCESS FOR FORMING A PROTECTION LAYER FOR SEMICONDUCTOR LASER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR950004598(B1) |
申请公布日期 |
1995.05.02 |
| 申请号 |
KR19910013192 |
申请日期 |
1991.07.31 |
| 申请人 |
SUMITOMO ELECTRIC IND. LTD. |
发明人 |
SHIKATA, SHINICHI |
| 分类号 |
H01S5/00;H01S5/028;(IPC1-7):H01S3/19 |
主分类号 |
H01S5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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