METHOD OF FORMING ALIGNMENT MARK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE,申请号JP19930254608-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF FORMING ALIGNMENT MARK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE
摘要
申请公布号	JPH07111230(A)	申请公布日期	1995.04.25
申请号	JP19930254608	申请日期	1993.10.13
申请人	TOSHIBA CORP	发明人	KAWASAKI HISAO
分类号	H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
地址