| 发明名称 |
Chemical vapour deposition apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2282825(A) |
申请公布日期 |
1995.04.19 |
| 申请号 |
GB19940020264 |
申请日期 |
1994.10.07 |
| 申请人 |
* MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
NOBUAKI * KANENO;MOTOHARU * MIYASHITA;YUTAKA * MIHASHI |
| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/44;C23C16/455;(IPC1-7):C23C16/44;C23C16/46 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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