发明名称 |
REACTIVE ION ETCHING METHOD |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH0794470(A) |
申请公布日期 |
1995.04.07 |
申请号 |
JP19930238507 |
申请日期 |
1993.09.24 |
申请人 |
NIPPON TELEGR & TELEPH CORP <NTT> |
发明人 |
TAKAHASHI CHIHARU;MATSUO SEITARO |
分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/302 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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