发明名称 Method for simulation of MOS circuits.
摘要 Zur Herstellung eines integrierten Schaltkreises wird die Erstellung eines Entwurfs für den Schaltkreis, der mehrere MOS-Transistoren umfaßt, unter Verwendung eines Schaltkreissimulators gesteuert. In dem Schaltkreissimulator wird für die Anschlußknoten der MOS-Transistoren unter Vorgabe der Spannungen zwischen Gate und Source Vgs, zwischen Drain und Source Vds und zwischen dem Substrat und Source Vbs in einem konsistenten Transistormodell, in dem Drift, Diffusion und Kurzkanaleffekte berücksichtigt werden, Ids, Q, <IMAGE> berechnet. <IMAGE>
申请公布号 EP0646885(A2) 申请公布日期 1995.04.05
申请号 EP19940114515 申请日期 1994.09.15
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 MIURA-MATTAUSCH, MITIKO
分类号 H01L21/8234;G06F17/50;H01L21/82;H01L27/088;(IPC1-7):G06F17/60 主分类号 H01L21/8234
代理机构 代理人
主权项
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