发明名称 Couche antiréfléchissante et procédé pour fabriquer un dispositif semi-conducteur en utilisant une telle couche.
摘要 Procédé pour fabriquer une couche antiréfléchissante, comprenant les étapes suivantes: appliquer une solution polymère contenant, comme composant principal, au moins un composé choisi dans le groupe comprenant des résines à base de phénol, des résines solubles dans l'eau et des résines acryliques, et cuire ensuite à température élevée. Le procédé est simplifié et la réflectance de la couche est considérablement réduite.
申请公布号 FR2709869(A1) 申请公布日期 1995.03.17
申请号 FR19940005849 申请日期 1994.05.11
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD 发明人 PARK CHUN-GEUN;YEO GI-SUNG;PARK JUNG-CHUL
分类号 G03F7/11;G03F7/09;G03F7/40;H01L21/027;H01L21/312;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
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