发明名称 |
Couche antiréfléchissante et procédé pour fabriquer un dispositif semi-conducteur en utilisant une telle couche. |
摘要 |
Procédé pour fabriquer une couche antiréfléchissante, comprenant les étapes suivantes: appliquer une solution polymère contenant, comme composant principal, au moins un composé choisi dans le groupe comprenant des résines à base de phénol, des résines solubles dans l'eau et des résines acryliques, et cuire ensuite à température élevée. Le procédé est simplifié et la réflectance de la couche est considérablement réduite.
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申请公布号 |
FR2709869(A1) |
申请公布日期 |
1995.03.17 |
申请号 |
FR19940005849 |
申请日期 |
1994.05.11 |
申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD |
发明人 |
PARK CHUN-GEUN;YEO GI-SUNG;PARK JUNG-CHUL |
分类号 |
G03F7/11;G03F7/09;G03F7/40;H01L21/027;H01L21/312;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/11 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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