发明名称 全聚合紫外线反射膜
摘要 一种全聚合物的紫外线反射膜,其成本比先前使用的反射器材质低,可以抵抗气候,及不会吸收显着量的日光紫外线能量。该膜包括至少第一及第二不同的聚合物材质之足够数目的交替膜层,该不同的聚合物材质在介于 300至 400 毫微米的波长之间具有平均大于约50百分比的穿透率。该膜之实质多数的个别膜层具有之光学厚度为使在该聚合物材质的一个重覆单元内光学厚度的总和是介于 0.15到 0.228 微米之间,而且其中该第一及第二聚合物材质在从300到400毫微米的波长范围内彼此在折射率上至少差距约 0.03。该反射膜在日光去毒系统中可以当作一反射材质,在室内及室外照明系统中可以当作一保护性材质,在医学显像、天文望远镜、及显微镜的领域中或是在使用UV射线的化学反应中可以当作一UV镜。
申请公布号 TW242604 申请公布日期 1995.03.11
申请号 TW082101331 申请日期 1993.02.24
申请人 陶氏化学国际有限公司 发明人 华尔特J.雪兰克
分类号 B32B7/00;B32B27/00 主分类号 B32B7/00
代理机构 代理人 蔡坤财 台北巿松江路一四八号十二楼之三;恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种全聚合紫外线反射膜,其具有不会吸收显着 量的紫 外线之至少第一及第二不同的聚合物材质,该膜包 含足够 数目的该第一及第二的聚合物材质之交替膜层使 入射在该 膜上的至少30百分比的波长在300到400毫微米之紫 外线被 反射,该第一及第二聚合物材质在300到400毫微米的 波长 之间具有平均大于50百分比的穿透率,该膜实质大 多数的 个别膜层具有之光学厚度为使该聚合物材质的一 重覆单元 内光学厚度的总和是介于0.15到0.228微米之间,而且 其 中该第一及第二聚合物材质在从300到400毫微米的 波长范 围内彼此在折射率上至少差距0.03。2.如申请专利 范围第1项之全聚合紫外线反射膜,其中该 个别膜层具有介于0.07到 0.11微米之间的光学厚度。3.如申请专利范围第1项 之全聚合紫外线反射膜,其中该 第一聚合物材质是聚偏二氟乙烯而该第二聚合物 材质是聚 甲基丙烯酸甲酯。4.如申请专利范围第1项之全聚 合紫外线反射膜,其中该 第一聚合物及第二聚合物的材质是选自聚甲基丙 烯酸甲酯 、聚偏二氟乙烯、聚氯三氟乙烯、及聚甲基-1-戊 烯之 族群。5.如申请专利范围第1项之全聚合紫外线反 射膜,其中该 膜包含至少200膜层。6.如申请专利范围第1项之全 聚合紫外线反射膜,其中至 少80百分比入射于该膜上波长介于300到400毫微米 之间的 紫外线被反射。7.如申请专利范围第1项之全聚合 紫外线反射膜,其中该 聚合物之膜包括在一ABCB的重覆单元中的交替膜层 之第一 、第二、及第三不同的聚合物材质。8.如申请专 利范围第1项之全聚合紫外线反射膜,其中该 聚合物之膜包括在一个ABC的重覆单元中的交替膜 层之第 一、第二、及第三不同的聚合物材质。9.如申请 专利范围第1项之全聚合紫外线反射膜,其中该 聚合物之膜被制成片状或与一透明的基体材质或 与一可见 光及/或红外线的反射体被共压制。10.如申请专利 范围第1项之全聚合紫外线反射膜,其中 该膜包括在该膜的一或两面外表上的保护性表膜 层。第1 图是本发明之二成份多层紫外线反射膜之截面结 构图,该 膜包括外表两面的保护性表层。第2图是一日光去 毒反射 器系统之外观及部份概要图。第3图是依据本发明 所制成
地址 美国