发明名称 MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR LAYER STRUCTURE HAVING FLAT SURFACE
摘要
申请公布号 JPH0758090(A) 申请公布日期 1995.03.03
申请号 JP19940192792 申请日期 1994.07.25
申请人 SIEMENS AG 发明人 TOOMASU MAISUTAA;RAINHARUTO SHIYUTENGURU
分类号 H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/3105;H01L21/469;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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