| 发明名称 | 一种轴密封装置 | ||
| 摘要 | 一种轴密封装置，其是由沿轴向配置的两组机械密封构成，以便由在两机械密封之间形成的清洗流体区把密封流体区和大气区隔开并密封，在旋转轴上安装并固定有第一密封环，并在壳体上安装着压向第一密封环的第二密封环。在密封流体区一侧的第一密封由接触式密封构成。大气区一侧的第二密封由非接触式密封构成。在清洗流体区中注入低于被密封体压力的清洗气体。 | ||
| 申请公布号 | CN1099466A | 申请公布日期 | 1995.03.01 |
| 申请号 | CN93116478.8 | 申请日期 | 1993.08.25 |
| 申请人 | 日本皮拉工业株式会社 | 发明人 | 有坪博文;布施敏彦 |
| 分类号 | F16J15/16 | 主分类号 | F16J15/16 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 崔幼平 |
| 主权项 | 1、一种轴密封装置，其是由配置在沿旋转轴(16)的轴线方向的两组机械密封(11，21)构成，以便通过在机械密封(11，21)之间形成的一清洗流体区(C)来将密封流体区(A)和大气区(B)隔离并密封，其特征在于，机械密封(11，21)是把第一密封环(12，22)安装并固定在密封壳体(15)上或是插入其中的旋转轴(16)上，并且另外在轴上或是在壳体上装有被施压并推压向第一密封环(12，22)的可轴向滑动的第二密封环(13，23)，在密封流体区(A)一侧的第一机械密封(11)是由接触式密封构成，以使在密封流体区(A)的流体压力作为反压力作用在第二密封环(13)上，在大气区B一侧的第二机械密封(21)由非接触式密封构成，以使在清洗流体区(C)中的流体压力能以反压力形式作用在第二密封环(23)上，并在清洗流体区(C)中注入压力低于被密封流体压力的清洗气体(G)，例如氮气。 | ||
| 地址 | 日本大阪市 | ||