发明名称 BISTURI DE PLASMA.
摘要 EN UN BISTURI DE PLASMA (40,41), QUE CONSTA DE AL MENOS DOS ELECTRODOS ESPACIADOS (21,22) SOMETIDOS A DIFERENCIAS DE POTENCIAL ELECTRICO TALES QUE SE PRODUCEN ARCOS ELECTRICOS ENTRE SI Y UN MEDIO PARA PRODUCIR AL MENOS UNA CORRIENTE DE FLUIDO QUE ATRAVIESA UNA REGION DEL ESPACIO EN LOS QUE DICHOS ARCOS ELECTRICOS SE PRODUCEN, DICHAS DIFERENCIAS DE POTENCIAL SON ALTERNATIVAS, DE MEDIA O ALTA FRECUENCIA. LOS EXTREMOS DE LOS ELECTRODOS SON SENSIBLEMENTE FILIFORMES Y FORMAN ENTRE ELLOS UN ANGULO, PREFERENTEMENTE AGUDO, Y UN TRANSFORMADOR ELEVADOR DE TENSION ESTA INCORPORADO AL DISPOSITIVO PARA SUMINISTRAR DICHAS DIFERENCIAS DE POTENCIAL ALTERNATIVAS. LAS CORRIENTES DE FLUIDO LLEGAN DESDE EL INTERIOR DEL ANGULO O A LO LARGO DE AL MENOS UNO DE DICHOS ELECTRODOS. EN UN MODO DE REALIZACION, CADA UNO DE DICHOS ELECTRODOS ESTA FORMADO POR UN HILO DE MATERIAL CONDUCTOR ELECTRICO (21,22) Y ESTA SITUADO EN UN CONDUCTO PORTAELECTRODOS (27,28) CUYO DIAMETRO INTERIOR ES LIGERAMENTE SUPERIOR AL DEL ELECTRODO. EL EXTREMO DE ESTE SOBREPASA AL CONDUCTO Y LOS FLUIDOS SON TRANSPORTADOS POR DICHOS PORTAELECTRODOS. DISPOSITIVO POLIVALENTE. NUMEROSAS APLICACIONES, EN ESPECIAL EN CIRUGIA DENTAL PERO TAMBIEN PARA OPERACIONES DE GRABADO, CORTE, SOLDADURA O RECARGA DE MATERIALES, TRATAMIENTO DE MATERIALES COMPUESTOS, ETC.
申请公布号 ES2065920(T3) 申请公布日期 1995.03.01
申请号 ES19880400349T 申请日期 1988.02.17
申请人 UNIVERSITE RENE DESCARTES (PARIS V) 发明人 BOUCHIER, GUY;LHUISSET, FRANCOIS
分类号 H05H1/30;A61B17/32;A61B18/00;A61B18/12;A61B18/18;A61M13/00;B23K10/00;H05H1/34;(IPC1-7):A61B17/36;A61B17/39 主分类号 H05H1/30
代理机构 代理人
主权项
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