| 发明名称 |
Blanking aperture array, method of producing blanking aperture array, charged particle beam exposure apparatus and charged particle beam exposure method. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0404608(B1) |
申请公布日期 |
1995.02.22 |
| 申请号 |
EP19900401329 |
申请日期 |
1990.05.18 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
FUEKI, SHUNSUKE;YASUDA, HIROSHI;SAKAMOTO, KIICHI;TAKAHASHI, YASUSHI |
| 分类号 |
H01J37/04;H01J37/302;(IPC1-7):H01J37/09;H01J37/317 |
主分类号 |
H01J37/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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