RECUBRIMIENTO ELECTROLITICO CONTINUO DE MATERIALES ESPONJOSOS CONDUCTORES.

摘要

LA PRESENTE INVENCION RESIDE EN EL DESCUBRIMIENTO DE QUE UNA BANDA (12) DE ESPUMA RETICULADA, LA CUAL ES SEMICONDUCTIVA, PUEDE SER CONTINUAMENTE ELECTROCHAPADA, UTILIZANDO UN RODILLO CATODO (26) QUE ESTA POSICIONADO EN UNA PRIMERA ZONA DE ELECTROCHAPADO, FUERA DEL BAÑO DE ELECTROCHAPADO. UN ANODO (28) ESTA SUMERGIDO EN EL BAÑO DE ELECTROCHAPADO. LA BANDA DE ESPUMA QUE CIRCULA, SE INTRODUCE PRIMERO EN EL BAÑO (22) DE ELECTROCHAPADO, Y SE DESPLAZA EN LA DIRECCION DEL ANODO AL RODILLO CATODO, ANTES DE TOMAR CONTACTO CON EL. LA BANDA CONSIGUE UN CHAPADO PARCIAL EN EL ANODO, EN ESTE CAMINO EL CUAL PROVEE UNA VIA DE CORRIENTE ENTRE ANODO Y RODILLO CATODO, EFECTIVA PARA MANTENER LA REACCION DE CHAPADO EN DICHA PRIMERA ZONA DE ELECTROCHAPADO.FIG 3.