发明名称 |
用于高真空装置上的机械密封 |
摘要 |
本发明涉及一种用于高真空装置上的机械密封装置。它包括一个楔形密封环,在该密封环的下面装有一个硬质合金的动环,上面装有一个压环,在动环下面设有二个由石墨制成的静环,其特征在于动静环材质是一软一硬,软材料制成窄环,动静环与轴间的间隙为1-3毫米,环的端面光洁度为10~12,当旋转轴在轴向上窜动不大于5微米,径向摆动不大于10微米时,真空度可保持在0.5托。 |
申请公布号 |
CN1027659C |
申请公布日期 |
1995.02.15 |
申请号 |
CN92101337.X |
申请日期 |
1992.03.07 |
申请人 |
刘连甫 |
发明人 |
刘连甫 |
分类号 |
F16J15/34 |
主分类号 |
F16J15/34 |
代理机构 |
北京市科技专利事务所 |
代理人 |
王德桢 |
主权项 |
1.一种用于高真空装置上的机械密封装置,包括一个楔形密封环,在该形密封环的下面装有一个硬质合金的动环,在楔形密封环的上面装有一个压环,在压环之上装有一个楔形密封压盖,在压盖与动环之间用定位销加以固定,在动环的下面设置有两个由石墨制成的静环,从而构成了两个径向密封面,静环固定在静环座中,一静环座上设置有冷却润滑油管和冷却润滑油进口,在静环的下方装有辅助密封圈和弹簧作为轴向磨损的补偿元件和缓冲元件,此外,还装有保险钩,其特征在于,所述结构借助螺钉固定在真空反应装置顶部的法兰盘上用来作为真空反应装置与伸入其中的旋转轴之间的动密封;动静环材质是一软一硬,软材料制成窄环,二环的差值为1~3毫米;动静环与轴之间的间隙为1~3毫米;端面光洁度为10~12,端面平直度h≤0.00009毫米;当旋转轴在轴向上窜动不大于5微米,径向摆动不大于10微米时,真空度可保持在0.5托。 |
地址 |
100027北京市朝阳区左家庄新源街20楼703号 |