| 发明名称 |
FORMING METHOD OF SILICON OXIDE FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0745605(A) |
申请公布日期 |
1995.02.14 |
| 申请号 |
JP19930188156 |
申请日期 |
1993.07.29 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD;KYUSHU FUJITSU ELECTRON:KK |
发明人 |
FUKUYAMA SHUNICHI;HARADA HIDEKI;SHIN DAITEI;KOMATSU YOSHIKI |
| 分类号 |
H01L21/316;C23C18/12;G02F1/1333;H01L21/312;H01L21/768;H01L51/00;H01L51/05;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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