CLEANING OF WAFER AND WAFER CLEANING DEVICE,申请号JP19930202989-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	CLEANING OF WAFER AND WAFER CLEANING DEVICE
摘要
申请公布号	JPH0737855(A)	申请公布日期	1995.02.07
申请号	JP19930202989	申请日期	1993.07.23
申请人	SONY CORP	发明人	NOGAMI YOICHI
分类号	H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
主权项
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