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发明名称 Herstellungsverfahren von Laserstrukturen mit seitlicher Begrenzung und niederem Schwellstrom.
摘要
申请公布号 DE69012968(T2) 申请公布日期 1995.02.02
申请号 DE19906012968T 申请日期 1990.12.18
申请人 ALCATEL ITALIA S.P.A., MAILAND/MILANO, IT 发明人 VIDIMARI, FABIO, I-20131 MILANO, IT;PELLEGRINO, SERGIO, I-10126 TORINO, IT
分类号 H01L33/00;H01S5/20;H01S5/227;(IPC1-7):H01L33/00;H01S3/19 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人
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