发明名称 Chemical vapour deposition apparatus and method for forming thin film.
摘要
申请公布号 EP0436070(B1) 申请公布日期 1995.02.01
申请号 EP19900116005 申请日期 1990.08.21
申请人 KAWASAKI STEEL CORPORATION 发明人 OHTA, TOMOHIRO, C/O TECHNICAL RESEARCH DIVISION;KONDOH, EIICHI, C/O TECHNICAL RESEARCH DIVISION;MITOMO, TOHRU, C/O TECHNICAL RESEARCH DIVISION;OTSUKA, KENICHI, C/O TECHNICAL RESEARCH DIVISION;SEKIHASHI, HIROSHI, C/O TECHNICAL RESEARCH DIV.
分类号 C23C16/46;(IPC1-7):C23C16/46;C23C16/52 主分类号 C23C16/46
代理机构 代理人
主权项
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