发明名称 |
PROCEDIMIENTO DE DISOLUCION DE OXIDO DEPOSITADO SOBRE UN SUBSTRATO METALICO Y SU APLICACION A LA DESCONTAMINACION. |
摘要 |
LA INVENCION SE REFIERE AL PROCEDIMIENTO DE DISOLUCION DEL OXIDO DEPOSITADO SOBRE UN SUBSTRATO METALICO. ESTE PROCEDIMIENTO COMPRENDE LAS ETAPAS SIGUIENTES: A) ATAQUE AL MEDIO POR UNA DISOLUCION OXIDANTE QUE CONTIENE ANION PERMANGANATO A UN PH COMPRENDIDO ENTRE 2 Y 6, PREFERIBLEMENTE ENTRE 2 Y 4, ELIGIENDOSE LA DURACION DEL ATAQUE DE MODO QUE LA FASE EXPONENCIAL ESTE TERMINADA, CONTENIENDO IGUALMENTE LA DISOLUCION OXIDANTE ION SULFATO A UNA CONCENTRACION COMPRENDIDA ENTRE 10-2 Y 10-5, PREFERIBLEMENTE ENTRE 10-3 Y 10-4; B) UN ATAQUE REDUCTOR POR MEDIO DE UN COMPUESTO ORGANICO FACILMENTE DEGRADABLE. APLICACION A LA DESCONTAMINACION DE ORGANOS DE CENTRALES NUCLEARES.
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申请公布号 |
ES2064683(T3) |
申请公布日期 |
1995.02.01 |
申请号 |
ES19900401826T |
申请日期 |
1990.06.26 |
申请人 |
ELECTRICITE DE FRANCE SERVICE NATIONAL |
发明人 |
NOEL, DIDIER;GREGOIRE, JACQUES |
分类号 |
C23G1/02;G21F9/00;(IPC1-7):G21F9/00 |
主分类号 |
C23G1/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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