发明名称 COMPOSICION DE CAPA PROTECTORA POSITIVA.
摘要 De conformidad con la siguiente invención, se proporciona la siguientecomposición de capa protectora positiva, la cual tiene propiedadesexcelentes tales como resolución, perfil, profundidad de foco, etc., ylibre de escoria: una composición de capa protectora positiva quecomprende (a) una resina novolac obtenida a través de una reacción decondensación de un compuesto de aldehído y una mezcla de compuestos defenol que comprende el m-cresol, el p-cresol y el 2,5-xilenol, b) unmaterial de quinonadiazida, sensible a la luz, que contiene el diester delácido quinonadiazidasulfónico del compuesto que tiene no menos de tresgrupos hidroxilo fenólicos en una cantidad de 40% o más, como se expresaen términos del área de la gráfica mediada mediante cromatografía líquidade alta resolución, y c) un compuesto soluble en álcali, que tiene un pesomolecular menor que 900.
申请公布号 MX9306980(A) 申请公布日期 1995.01.31
申请号 MX19930006980 申请日期 1993.11.09
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED 发明人 HARUYOSHI OSAKI;CHINEHITO EBINA;HIROSHI MORIUMA;YASUNORI UETANI
分类号 G03F7/022;(IPC1-7):C23C22/28 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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