| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING PLASMA PROCESSING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR950000653(B1) |
申请公布日期 |
1995.01.27 |
| 申请号 |
KR19910014288 |
申请日期 |
1991.08.20 |
| 申请人 |
HITACHI LTD. |
发明人 |
TAMURA, HITOSHI;SHIMIZU, TAMOTSU |
| 分类号 |
H05H1/18;C23C14/34;C23C16/50;C23C16/511;C23C16/52;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H05H1/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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