发明名称 |
Optical alignment system for use in photolithography and having reduced reflectance errors. |
摘要 |
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申请公布号 |
EP0341848(B1) |
申请公布日期 |
1995.01.25 |
申请号 |
EP19890303972 |
申请日期 |
1989.04.21 |
申请人 |
MRS TECHNOLOGY, INC |
发明人 |
HOLBROOK, DAVID S.;SIMPSON, CRAIG R. |
分类号 |
G03F9/00;H01L21/027;H01L21/30;H05K3/00;(IPC1-7):G03F9/00 |
主分类号 |
G03F9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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