| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING STRAIN HETERO EPITAXIAL LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0722330(A) |
申请公布日期 |
1995.01.24 |
| 申请号 |
JP19930158463 |
申请日期 |
1993.06.29 |
| 申请人 |
OKI ELECTRIC IND CO LTD |
发明人 |
OONO MORIFUMI;NAKAMURA TOSHIYUKI;ASHIKAGA KINYA |
| 分类号 |
C30B25/14;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C30B25/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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