| 发明名称 |
SPUTTERING TARGET MATERIAL CAPABLE OF FORMING FERROELECTRIC THIN FILM HAVING STABLE PB CONTENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0718427(A) |
申请公布日期 |
1995.01.20 |
| 申请号 |
JP19930187482 |
申请日期 |
1993.06.30 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP |
发明人 |
NODA FUMIO;YASUKAWA TAKAMASA;OUCHI YUKIHIRO |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/08;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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