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发明名称 SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT FOR PROCESS DEFECT ANALYSIS
摘要
申请公布号 JPH0714900(A) 申请公布日期 1995.01.17
申请号 JP19930150727 申请日期 1993.06.22
申请人 HITACHI LTD;HITACHI VLSI ENG CORP;HITACHI COMPUT ENG CORP LTD 发明人 HOSHI MASAAKI;YOSHIDA SUKEHIRO;MORIYA SATOSHI
分类号 H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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