| 主权项 |
1.一种工业用杀菌剂,其中包含做为有效成分的至 少一种 卤乙二 衍生物(IC'C)及任意之携体或稀释剂:式中Y 系 氢原子,氯原子或CC_1-4C烷基;ZC'C系氢原子或任意氯 化之CC_1-5C低级烷醯;但若Y系氯原子,则ZC'C系任意 氯 化之CC_1-5C低级烷醯。2.根据申请专利范围第1项之 工业用杀菌剂,其中尚包含 二卤乙二 。3.一种工业用杀菌剂,其中包含:做为 活性成分之至少一 种卤乙二 衍生物:式中Y系氢原子,氯原子或CC_1-4C 低 级烷基;Z系氢原子或任意氯化之CC_1-5C低级烷醯;及 至 少一种已知工业用杀菌剂,选自有机氮硫化物,有 机卤化 物,有机氮化物及有机硫化物;以及任意之携体或 稀释剂 ,其中有机氮-硫化物选自甲撑双硫代氰酸酯,5-氯-2 -甲基-4-异唑--酮,-甲基--异唑--酮及,- 二氯--正辛基异唑--酮,有机卤化物选自2-溴-2- 硝基丙烷-1,3-二醇,2-溴-2-硝基-1-乙醇,2, 2-二溴-2-硝基-1-乙醇,2-溴-2-硝基-1,3- 二乙醯氧丙烷,2,2-二溴-3-氮川丙醯胺,-溴- -硝基苯乙醯,5-溴-5-硝基-1,3-二恶烷,1,2 -双(溴乙醯氧)乙烷,1,2-双(溴乙醯氧)丙烷,1,4- 双(溴乙醯氧)-2-丁烯及1,2,3-三(溴乙醯氧)丙烷, 有机硝基化物选自-氯苯醛 ,5-氯-2,4,6-三氟 异及5-氯-2,4-二氟-6-甲氧异,有机硫化 物选自3,3,4,4-四氯四氢吩-,-二氧,,-二氯- ,-二硫赶-3-酮,双(三氯甲基) 及双(三溴甲基) 。4.根据申请专利范围第1或3项之工业用杀菌剂, 式中Y 为氯原子。5.根据申请专利范围第1或3项之工业用 杀菌剂,其中卤 乙二 衍生物IC'C或I系单卤乙二 者。6.根据申请专 利范围第1或3项之工业用杀菌剂,其中卤 乙二 衍生物IC'C或I为卤乙二 二醯化物。7.根据申 请专利范围第3项之工业用杀菌剂,其中卤乙二 衍生物I为二卤乙二 。8.根据申请专利范围第3项 之工业用杀菌剂,其中卤乙二 衍生物IC'C或I为单卤乙二 及二卤乙二 。9.根据申 请专利范围第3项之工业用杀菌剂,其中卤乙二 衍生物I和已知之工业用杀菌剂之重量比为20:1至1: 20。10.一种工业杀菌法,系在工业介质中加入杀菌 有效量之 申请专利范围第1项所定义之卤乙二 衍生物IC'C。 11.根据申请专利范围第10项之方法,其中杀菌有效 浓度 为0.1至20毫克/升。12.一种工业杀菌法,系在工业介 质中同时或分别加入杀 菌有效量的申请专利范围第3项之卤乙二 衍生物I 及已 知之工业用杀菌成分。13.根据申请专利范围第12 项之方法,其中卤乙二 衍生 物I和已知工业用杀菌成分之重量比为50:1至1:20,其 |
