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Es werden eine Ionenstrahl-Bearbeitungsvorrichtung und ein Verfahren zum Betreiben einer Ionenquelle für diese angegeben, die so beschaffen sind, dass sie die Häufigkeit von Spannungseinbrüchen wegen Teilchen verringern, und die eine Verlängerung der Nutzungszeit der Vorrichtung durch stabilen Betrieb der Vorrichtung für lange Zeit und durch Minimieren von Wartungsvorgängen, wie Reinigungsvorgängen für die Vorrichtung ermöglichen. In eine Vakuumkammer aus einer Bearbeitungskammer und einer an dieser angebrachten Ionenquelle zum Erzeugen eines Plasmas wird ein Plasma erzeugendes Gas abgeleitet, und innerhalb der Vakuumkammer wird ein elektrisches Feld angelegt, um Ionen innerhalb des Plasmas als Ionenstrahl zu entnehmen. Die Ionenquelle (1) verfügt über eine Bogenspannungsversorgung (7), eine Beschleunigungsspannungsversorgung (8) zum Anlegen einer positiven Spannung an eine Beschleunigungselektrode (2) zum Entnehmen des Ionenstrahls und eine Verzögerungsspannungsversorgung (9) zum Anlegen einer negativen Spannung an eine Verzögerungselektrode (3), um zu verhindern, dass Ionen in die Ionenquelle fliegen. Wenn die Ionenquelle betrieben wird, wird als Erstes die positive Spannung an die Beschleunigungselektrode angelegt, und dann wird die negative Spannung an die Verzögerungselektrode angelegt.
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