| 主权项 |
1.一种电浆处理装置,系具备着该配置有螺旋状线圈之螺旋状共振器、以及在下侧位置配置有晶圆座架并且在前述之晶圆座架上载置有必须进行处理之晶圆的电浆处理室,而且,前述螺旋状线圈系由n/4之长度之金属所制造而成的,其中,n系为整数,而系为赋予前述之螺旋状线圈之rf频率之波长,其特征为:该电浆处理装置,系包含有,反应容器,其为含有前述螺旋状共振器和前述电浆处理室,在这里,前述螺旋状共振器系具备有用以导入气体之垂直棒状构件,而该垂直棒状构件,系固定于前述螺旋状共振器之顶板上,并且,还连接至气体导入埠上;以及,间隔壁,其用以将前述反应用容器而分开成为前述螺旋状共振器和前述电浆处理室,并且,该间隔壁,系由外部金属环圈、圆形中央板、以及前述外部金属环圈和前述中央金属板之间之圈套型介电体板而构成的,此外,在这里,前述圆形中央板系使用前述垂直棒状构件,而固定于前述顶板上,并且,包含有气体用保留器和许多个气体导入埠;在这里,前述螺旋状线圈,系配置于前述垂直棒状构件之周围上,并且具备有满足d1<D<d2之直径(D),其中,d1和d2系为前述圈套型介电体板之内径和外径。2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中前述中央金属板系成为电性接地状态,或者是成为电性绝缘状态。3.如申请专利范围第1或2项之电浆处理装置,其中系将rf电力或者DC(直流)偏向电压,供应至前述成为电性绝缘状态之中央金属板。4.如申请专利范围第1或2项之电浆处理装置,其中系透过呈串联连接之感应要素和可变电容要素,而使得前述成为电性绝缘状态之中央金属板成为接地状态。5.如申请专利范围第1或2项之电浆处理装置,其中前述螺旋状线圈,系具备有至少2个沿着垂直方向而延伸的线圈。6.如申请专利范围第1或2项之电浆处理装置,其中最接近前述螺旋状线圈之前述圈套型介电体板之下侧端部系被接地,另一方面,位处于最远离前述介电体板之部位上的另一端部系被开放。7.如申请专利范围第1或2项之电浆处理装置,其中前述外部金属环圈、前述圈套型介电体板、前述中央金属板、和前述螺旋状线圈,系共同具有相同的中央轴。8.如申请专利范围第1或2项之电浆处理装置,其中前述顶板,系配置于介电体环圈之上。9.如申请专利范围第1或2项之电浆处理装置,其中附设有金属制外壳,用以覆盖住前述螺旋状共振器。图式简单说明:第一图系为用以显示出本发明之电浆处理装置之实施形态1之内部构造之立体图以及剖面图。第二图(A)系为用以显示出本发明之电浆处理装置之所发明出之电浆源之上侧部分之剖面图,而第二图(B)系为用以显示出本发明之电浆处理装置之电浆室之直径方向上之电浆之电浆密度分布之图式。第三图系为本发明之电浆处理装置之实施形态2之电浆源之上侧部分之剖面图。第四图系为本发明之电浆处理装置之实施形态3之电浆源之上侧部分之剖面图。第五图系为本发明之电浆处理装置之实施形态4之电浆源之上侧部分之剖面图。第六图系为本发明之电浆处理装置之实施形态5之电浆源之上侧部分之剖面图。第七图系为本发明之电浆处理装置之实施形态6之电浆源之上侧部分之剖面图。第八图系为用以显示出所谓具代表性之习知之先前技术之电浆处理装置之螺旋状共振器电浆源之说明图。 |
