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发明名称 PLASMA ETCHING SYSTEM AND METHOD
摘要
申请公布号 JPH077001(A) 申请公布日期 1995.01.10
申请号 JP19930254255 申请日期 1993.10.12
申请人 HITACHI LTD;HITACHI TOKYO ELECTRON CO LTD;TOKYO ELECTRON YAMANASHI KK 发明人 TOMITA KAZUISHI;ITO GIICHI;HIRANO MOTOHIRO;NOZAWA HIKARI;MATSUO HIROMITSU;IIMURO SHUNICHI;TOZAWA SHIGEKI;MIURA YUTAKA
分类号 C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
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