| 发明名称 |
PRODUCTION OF HIGH-PURITY THIN COPPER FILM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH073459(A) |
申请公布日期 |
1995.01.06 |
| 申请号 |
JP19940032213 |
申请日期 |
1994.03.02 |
| 申请人 |
KOREA ADVANCED INST OF SCI TECHNOL |
发明人 |
SAI KIYOUJIYU;SHIYOU EISHIYOU;HAYASHI SHIYOUCHIYUU;KOU JIYUNTAKU |
| 分类号 |
C23C16/18;C23C16/00;(IPC1-7):C23C16/18 |
主分类号 |
C23C16/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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