| 发明名称 |
Vorrichtung zum Abtasten von Wafern durch einen Ionenstrahl |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE3588237(T2) |
申请公布日期 |
2002.11.14 |
| 申请号 |
DE19853588237T |
申请日期 |
1985.09.19 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
ROBINSON, FREDERICK J.L.;WAUK, MICHAEL T. |
| 分类号 |
C23C14/48;C23C14/50;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/317;H01L21/00 |
主分类号 |
C23C14/48 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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