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1.一种通式I之 基烯醇醚之衍生物其中A为CH-O-CC_1C -CC_4C烷基或H-O-CC_1C-CC_4C烷基,B为CC_1C-CC_ 4C-烷氧基,U、V及W为氢,RC^1C为氢或CC_1C-CC_4C烷 基,RC^2C为氢、氰基、苯基、COC_2CRC^4C、PO(ORC^4C) C_2C、CC_1C-CC_4C-烷基或CC_1C-CC_2C-烷氧亚胺基 -CC_1C-CC_4C-烷基,RC^3C为氢,未经取代或经卤素 ,CC_1C-CC_4C-烷基或苯氧基取代之苯基;1-咪唑基 ,其可带有一个苯甲醯基,RC^1C及RC^3C一起,且RC^2C 及RC^3C亦一起,可形成一种5-7员碳环或具有一个或 多 个选自N、O或S之杂原子之杂环,其可为苯并稠合及 被上 述未经取代或经取代中述及之基团取代,其可为下 列环系 B-K:其中X为O或NRC^4C,Y为(CHC_2C)C_nC,其中n=0. 1或2,且RC^4C为氢或CC_1C-CC_4C-烷基,且....为单 键或双键,RC^aC系CC_1C-CC_4C烷基,且Y-X系CHC_2C -CHC_2C,其可带有一个四氢 喃环。2.根据申请专利 范围第1项之 基烯醇醚式中A系CHOCHC_ 3C,且B系OCHC_3C。3.根据申请专利范围第1项之 基烯 醇醚式中A系NOCHC_3 C,且B系OCHC_3C。4.一种制备如申请专利范围第1项式 I之 基烯醇醚之方 法,其包含将下列之 基衍生物其中U,V,W,A及B如申 请专利范围第1项之定义且L系离去基,与下式之烯 醇反 应其中RC^1C,RC^2C及RC^3C具有申请专利范围第1项之 意义。 6.一种杀真菌剂,其含有惰性载剂及杀真菌活性量 之式I 之 基烯醇醚其中A为CH-O-CC_1C-CC_4C烷基或H-O- CC_1C-CC_4C烷基,B为CC_1C-CC_4C-烷氧基,U、V及W 为氢,RC^1C为氢或CC_1C-CC_4C烷基,RC^2C为氢、氰基 、苯基、COC_2CRC^4C、PO(ORC^4C)C_2C、CC_1C-CC_4C -烷基或CC_1C-CC_2C-烷氧亚胺基-CC_1C-CC_4C-烷 基,RC^3C为氢,未经取代或经卤素,CC_1C-CC_4C-烷 基或苯氧基取代之苯基;1-咪唑基,其可带有一个苯 甲 醯基,RC^1C及RC^3C一起,且RC^2C及RC^3C亦一起,可形 成一种5-7员碳环或具有一个或多个选自N、O或S之 杂原 子之杂环,其可为苯并稠合及被上述未经取代或经 取代中 述及之基团取代,其可为下列环系B-K:其中X为O或NRC ^ 4C,Y为(CHC_2C)C_nC,其中n=0.1或2,且RC^4C为氢或C C_1C-CC_4C-烷基,且....为单键或双键,RC^aC系CC_1 C-CC_4C烷基,且Y-X系CHC_2C-CHC_2C,其可带有一个 四氢 喃环。 6.一种控制真菌之方法,其包含用杀真菌活性量之 式I之 化合物处理真菌或遭受真菌威胁之材质、植物、 种子或土 地其中A为CH-O-CC_1C-CC_4C烷基或H-O-CC_1C-CC_ 4C烷基,B为CC_1C-CC_4C-烷氧基,U、V及W为氢,RC^1 C为氢或CC_1C-CC_4C烷基,RC^2C为氢、氰基、苯基、CO C_2CRC^4C、PO(ORC^4C)C_2C、CC_1C-CC_4C-烷基或CC_ 1C-CC_2C-烷氧亚胺基-CC_1C-CC_4C-烷基,RC^3C为 氢,未经取代或经卤素,CC_1C-CC_4C-烷基或苯氧基取 代之苯基;1-咪唑基,其可带有一个苯甲醯基,RC^1C及 RC^3C一起,且RC^2C及RC^3C亦一起,可形成一种5-7员 碳环或具有一个或多个选自N、O或S之杂原子之杂 环,其 可为苯并稠合及被上述未经取代或经取代中述及 之基团取 代,其可为下列环系B-K:其中X为O或NRC^4C,Y为(CHC_ 2C)C_nC,其中n=0.1或2,且RC^4C为氢或CC_1C-CC_4C -烷基,且....为单键或双键,RC^aC系CC_1C-CC_4C烷 基,且Y-X系CHC_2C-CHC_2C,其可带有一个四氢 喃环 。 7.根据申请专利范围第1项之式I化合物,其中A系 CHOCHC _3C,B系OCHC_3C,U,V,W及RC^1C系氢,RC^2C系氰基且 RC^3C系2-氟苯基。 8.根据申请专利范围第1项之式I化合物,其中A系 CHOCHC _3C,B系OCHC_3C,U,V,W及RC^1C系氢,RC^2C系氰基且 RC^3C系4-甲苯基。 9.根据申请专利范围第1项之式I化合物,其中A系 NOCHC_ 3C,B系OCHC_3C,U,V,W及RC^1C系氢,RC^2C系氰基且R |
