首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PROCESS OF ETCHING OF SILICON DIOXIDE ON SILICON SUBSTRATE
摘要
申请公布号 RU2025823(C1) 申请公布日期 1994.12.30
申请号 SU19925039893 申请日期 1992.04.23
申请人 VALIEV KAMIL A;VELIKOV LEONID V;DUSHENKOV SERGEJ D 发明人 VALIEV KAMIL A;VELIKOV LEONID V;DUSHENKOV SERGEJ D
分类号 H01L21/02;(IPC1-7):H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com