单元式梯形阴极表面处理装置

摘要

本实用新型属于一种基体表面渗(或镀)的物理气相沉积装置，属于真空技术中物理气相沉积(PVD)技术范畴。其特征在于采用单元式梯形阴极结构，在低压气体环境下形成不均匀强放电场，激发离子束、电子束、活化的原子束，三者复合作用在基体表面上。可将靶材镀覆于基体表面或渗透于其中，以改善基体表面的机械、物理、化学性能。

主权项

1、一种单元式梯形阴极表面处理装置，它包括真空容器(1)、通真空泵的抽气口(4)、充氩气的充气口(5)，在真空容器(1)内设置有阳极(2)、阴极(3)以及待处理基体(6)，其特征在于：a、阳极(2)为封闭空间的形式，b、阴极(3)处于阳极空间内，在整体上围成封闭空间的形式，c、待处理基体(6)处于阴极空间内。