发明名称 微型电声装置的音膜
摘要 一种微型电声装置的音膜,该音膜具有一部位及一周边部位,该音膜的部位设有至少一皱摺,该皱摺是由该音膜本身变形而形成。该皱摺可以增加音膜的刚性,降低其最大变形位移,使用该音膜的电声装置可具有薄化的外型,且该皱摺可以增加音膜的共振频率。
申请公布号 TWI269604 申请公布日期 2006.12.21
申请号 TW094129256 申请日期 2005.08.26
申请人 鸿准精密工业股份有限公司 发明人 杨宗龙;邱士嘉
分类号 H04R7/02(2006.01) 主分类号 H04R7/02(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种微型电声装置的音膜,该音膜具有一中央部位及一周边部位,其改良在于:该音膜中央部位设有至少一皱摺,该皱摺是由该音膜本身变形而形成。2.如申请专利范围第1项所述之微型电声装置的音膜,其中该皱摺包括于该音膜中央部位形成的一圆形凹陷。3.如申请专利范围第1项所述之微型电声装置的音膜,其中该皱摺包括至少一条设于该音膜中央部位的环形凸起。4.如申请专利范围第1项所述之微型电声装置的音膜,其中该皱摺包括于该音膜中央部位形成的一圆形凹陷,及至少一设于该凹陷区域的环形凸起。5.如申请专利范围第1至4项任意一项所述之微型电声装置的音膜,其中该音膜周边部位设有多数经由音膜变形而形成的刻痕。6.如申请专利范围第5项所述之微型电声装置的音膜,其中所述刻痕呈放射状排列。7.如申请专利范围第5项所述之微型电声装置的音膜,其中所述刻痕呈长条状。8.如申请专利范围第7项所述之微型电声装置的音膜,其中所述刻痕的横截面为三角形。9.如申请专利范围第7项所述之微型电声装置的音膜,其中所述刻痕靠近音膜中央部位的一端的宽度小于所述刻痕靠近周边部位的一端的宽度。10.一种微型电声装置的音膜,其改良在于:该音膜经由变形而在其一面形成至少一凹陷,而在音膜的另一面对应该凹陷位置形成至少一凸起。11.如申请专利范围第10项所述之微型电声装置的音膜,其中该凹陷为圆形,形成于该音膜中央部位。12.如申请专利范围第11项所述之微型电声装置的音膜,其中该音膜于该圆形凹陷区域形成至少一环形皱摺,该环形皱摺是音膜经由变形而形成。13.如申请专利范围第10项所述之微型电声装置的音膜,其中该凹陷为长条形。14.如申请专利范围第13项所述之微型电声装置的音膜,其中该长条形凹陷的横截面为三角形。15.如申请专利范围第13项所述之微型电声装置的音膜,其中该长条形凹陷呈辐射状,形成于该音膜周边部位。图式简单说明:第一图为音膜第一实施例的立体剖视图;第二图为音膜第二实施例的立体剖视图;第三图为第二图另一方向视图;第四图为音膜第三实施例的立体剖视图;第五图为音膜第四实施例的立体剖视图;及第六图为音膜第五实施例的立体剖视图。
地址 台北县土城市中山路3之2号