发明名称 抗潜像衰变的远紫外敏感抗光蚀剂
摘要 一种正像工作远紫外敏感抗光蚀剂在烘焙前曝光后的持延过程中具有改进的临界尺寸稳定性。该抗光蚀剂包含不溶于水但通常溶于碱性水溶液介质的酸稳定性聚合物,某种光酸发生剂例如3,5-二硝基-2,6-二羟甲基对甲酚的三-(2,1,4-重氮萘醌磺酸)酯以及叔丁醇和多元酚的混合碳酸酯,它为能抑制通常可溶性聚合物在所述碱性介质中的溶解的酸不稳定化合物。
申请公布号 CN1096595A 申请公布日期 1994.12.21
申请号 CN94102363.X 申请日期 1994.03.04
申请人 莫顿国际股份有限公司 发明人 R·M·拉扎勒斯;T·A·克斯
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 林蕴和
主权项 1、一种正像工作的抗光蚀剂组合物,包含不溶于水但通常溶于碱性水溶液介质的聚合物;一种具有下述结构式的光酸发生剂:<img file="94102363X_IMG1.GIF" wi="1156" he="494" />其中Q为重氮萘醌部分;R为氢或-CH<sub>2</sub>-OS(=O)<sub>2</sub>-Q部分;R<sup>1</sup>为氢,羟基,或-O-S(=O)<sub>2</sub>-Q;R<sup>2</sup>为氢或低级烷基;和X为氢或硝基,附带条件为当X为硝基时,R<sup>2</sup>为低级烷基;和一种叔丁醇和多元酚的混合碳酸酯,它是通常可溶性聚合物在所述碱性介质中溶解的个别酸不稳定的抑制剂。
地址 美国伊利诺斯州