DIRECT CURRENT REACTIVE PLASMA DEPOSITION APPARATUS FOR ELECTRICAL INSULATING MATERIAL USING SHIELDED SECONDARY ANODE,申请号JP19940066101-传众专利搜索

发明名称	DIRECT CURRENT REACTIVE PLASMA DEPOSITION APPARATUS FOR ELECTRICAL INSULATING MATERIAL USING SHIELDED SECONDARY ANODE
摘要
申请公布号	JPH06346236(A)	申请公布日期	1994.12.20
申请号	JP19940066101	申请日期	1994.04.04
申请人	APPLIED MATERIALS INC	发明人	HOMOYAN TARII
分类号	C23C14/34;C23C14/38;H01J37/34;H01L21/203;(IPC1-7):C23C14/38	主分类号	C23C14/34
代理机构		代理人
主权项
地址