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1.一种聚合物之结垢防止方法,包括于内壁面涂覆有聚合物结垢防止用涂层之聚合反应槽中进行具有烯属不饱和双键之单体之聚合反应,其特征乃在该结垢防止用涂层系藉由涂覆一种由:醇或水及醇之混合溶剂及下述成份:(A)100重量份之二胺基;(B)1-10,000重量份之羟基;(C)0.01-5,000重量份之选自对-甲苯磺酸、磷酸及植酸之一种酸;及(D)含有10-50重量二氧化矽之一种粒径-的二氧化矽溶胶;此成份(D)对上述(A)、(B)、(C)合计量每100重量份使用1-10,000重量份,调制而得之涂覆液,然后予以乾燥而形成者。2.如申请专利范围第1项之方法,其中之成份(B)系选自2--羟基--1,4-- 、6--氯--2--羟基--1,4-- 、及5,8--二羟基--1,4-- 、及5,8--二羟基--1,4--之至少一种化合物者。3.如申请专利范围第1项之方法,其中之成份(A)、(B)、(C)及(D)之总浓度系0.001-5重量范围者。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该聚合反应系依悬浮聚合、乳化聚合、溶液聚合、整体聚合、或气相聚合方式进行者。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该单体系选自乙烯基酯,乙烯基卤,亚乙烯基卤,丙烯酸、甲基丙烯酸及彼等之酯类及盐类,苯乙烯,丙烯,-甲基苯乙烯及乙 |
