| 主权项 |
1.一种磁头,具有接触面用以与磁带之磁带面相配 合,且 包含至少有一转换隙终止于接触面之转换构造,其 特点为 其接触面设有至少一清理凹槽用以清理磁带面,其 凹槽之 伸展至少大体上与转换隙相平行,并具有至少一壁 体部份 ,其取向至少大体上与接触面相横切,而于接触面 上构成 刮擦边缘。2.根据申请专利范围第1项之磁头,其在 接触面上之清理 凹槽宽度尺寸系在100至300微米之间。3.根据申请 专利范围第1或2项之磁头,其刮擦边缘之曲 率半径系在1与5微米之间。4.根据申请专利范围第 1或2项之磁头,其接触面系由设 于磁头之磁头面之耐磨层所构成。5.一种制造如 申请专利范围第4项所述磁头之方法,其特 点为连续实施下述诸步骤:-产生磁头面,-提供清理 凹 槽,该凹槽具有一大致横亘于该磁头面的壁部且构 成一刮 擦边及-以耐磨层涂布磁头面。6.根据申请专利范 围第5项之方法,其中于磁头面上提供 耐磨层之前,其清理凹槽之刮擦边缘系依机械方式 处理。7.一种磁带系统,其特点为磁带装置及磁带 之出现,此磁 带装置设有磁头用以写录及/或读取磁带,此磁头 系为专 利范围第1,2,3或4项所述之磁头,或经由申请专利 范围第5或6项所述方法所制成之磁头。8.根据申请 专利范围第7项之磁带系统,其磁头设有第一 转换装置,用以扫描第一种磁带上之数位形式资讯 ,并设 有第二转换装置用以扫描第二种磁带上之类比形 式资讯, 有磁带卡匣,包括磁带导引装置,用以界定第一种 磁带之 第一接触面及第二种磁带之第二接触面,其清理凹 槽设置 于磁头之接触面上,其所在位置之上第一和第二接 触彼此 不相重叠。9.根据申请专利范围第8项之磁带系统, 其磁带卡匣设有 磁带压力元件用以推动磁带抵住磁头接触面。10. 根据申请专利范围第7项之磁带系统,其中,在运作 期间,其磁头可与转换隙相平行而与磁带相对移动 ,同时 其清理凹槽系由接触面第一边缘伸展至第二边缘 。11.根据申请专利范围第7项之磁带系统,其中之 磁带系 伸展于两卷轴之间,其磁带装置具有至少一驱动滚 轴,其 压力滚轴与其驱动滚轴相向配置,用以使磁带循沿 磁头移 动,同时在运作期间磁带通过清理凹槽,而后通过 转换隙 。图1所示为根据本发明之磁带系统之第一项实施 例,具 有磁带装置及两种彼此不同之磁带卡匣,两种皆适 于与此 装置相配合使用,图2所示为根据本发明之磁头于 运作期 间,其位于磁头孔隙附近之磁带卡匣之部份截面, 图3所 示为在根据本发明之磁头位置上,于记录/重现状 况中, 具有数位形式资讯之磁带导引装置,图4所示为在 根据本 发明之磁头位置上,于记录/重现状况中,具有类比 形式 资讯之磁带导引装置,图5所示为根据本发明,设有 耐磨 层之磁头实施例之侧面立视图,图6所示为图5磁头, 未 设耐磨层时之平面视图,图7所示为图5磁头之细部 视图 ,图8所示为根据本发明磁头之第二项实施例之示 意图, 及图9所示为根据本发明磁头之第三项实施例之示 意图。 |
