摘要 |
Es wird eine Vorrichtung zur absoluten Positionsmessung eines Teils (10) in bezug auf eine wenigstens zwei Sensoren (22, 23) enthaltende optische Meßanordnung (11) vorgeschlagen, bei der die Oberfläche des Teils (10) als Hologramm-Maßstab (18) ausgebildet ist oder bei der ein Hologramm-Maßstab (18) auf die Oberfläche (19) des Teils (10) aufgetragen wird. Der Hologramm-Maßstab (18) enthält Spuren (S0-Sm, Sm+1-Sn), die als Gitter mit jeweils einer vorgegebenen Gitterkonstanten (d0-dm) ausgebildet sind. Ein Teil der Spuren (S0-Sm) kann derart ausgelegt sein, daß sich die Gitterkonstanten (d0-dm) jeweils um einen vorgegebenen Betrag unterscheiden. Andere Spuren (Sm+1-Sn) sind derart ausgestaltet, daß die Gitter, die jeweils identische Gitterkonstanten aufweisen, Felder (30 - 34) enthalten, wobei die Anfangsphase beim Übergang von einem zum anderen Feld (30 - 34) zumindest eines Gitters geändert ist. <IMAGE>
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