| 发明名称 |
MICROWAVE ION SOURCE AND ION IMPLANTING DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06325710(A) |
申请公布日期 |
1994.11.25 |
| 申请号 |
JP19930113085 |
申请日期 |
1993.05.14 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
AMAMIYA KENSUKE;TOKIKUCHI KATSUMI;ITO JUNYA;SAKUMICHI KUNIYUKI |
| 分类号 |
C23C14/48;H01J27/18;H01J37/08;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/08 |
主分类号 |
C23C14/48 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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