| 发明名称 |
Appareil de dépôt chimique en phase vapeur activé par un plasma micro-ondes. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2695944(B1) |
申请公布日期 |
1994.11.18 |
| 申请号 |
FR19920011391 |
申请日期 |
1992.09.24 |
| 申请人 |
ONERA |
发明人 |
SEIBERRAS GHISLAINE;INDRIGO CLAUDE;MEVREL REMY;LEPRINCE PHILIPPE;BEJET MICHEL;LE PENNEC CLAUDE |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/448;C23C16/455;C23C16/511;(IPC1-7):C23C16/54;H05H1/46 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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