| 主权项 |
1.一种反射式光罩之制法,此光罩用于X射线频谱内之辐射显影方面,其中需要(a)建立一多层膜反射器,该反射器之曝空区造成该光罩之〞透光区〞,(b)建立一有图案之吸收层,有图案之区域界定该光罩之〞不透光区〞,及(c)修补此具有图案之吸收层,其特征为:有一障碍层安插于该吸收层和该多层膜反射器之间,在制程中包含有该吸收层之图案,该障碍层负责在对此具有图案之吸收层的修补期间,能保护多层膜反射器,以及(d)该障碍层接着则被赋予图案,露出曝空之多层膜反射器。2.如申请专利范围第1项中之光罩之制法,其中在吸收层上产生图案必须采用一层铺于该吸收层上,已布有图案之光阻层。3.如申请专利范围第1项中之光罩之制法,其中吸收层是以直接制图之方式来产生图案的。4.如申请专利范围第1项中之光罩之制法,需要在对该吸收层产生图案之后,接着进行检视工作,且如果必要的话,对其进行修补。5.如申请专利范围第4项中之光罩之制法,其中之检视工作为前述制程之正常步骤,至少在每一光罩之制程中的某一步骤上会执行一次。6.如申请专利范围第5项中之光罩之制法,其中光罩之修补需要用到乾式蚀刻法。7.如申请专利范围第6项中之光罩之制法,其中之乾式蚀刻制程包括将光罩之缺陷曝露于加速离子之下。8.如申请专利范围第7项中之光罩之制法,其中之修补工作为负面的,并主要包含离子溅射研磨步骤。9.如申请专利范围第7项中之光罩之制法,其中之修补工作为正面的,并主要包含离子沈积步骤。10.一种光罩,根据申请专利范围第1项至第9项中任一制法所制成。图1一空白光罩在制图之前的透视图。图2是四个显示制作中之光罩的透视图中的第一个,在此时,光阻层已曝光并显影,以展示重叠之吸收材料。图3显示制程中之某一阶段,其中光阻图案已转换到吸收层上。图4中,吸收层图案中之缺陷已被修正。图5展示最终光罩之某一部份,其中留存之图案细部由吸收层和重叠之障碍 |
