发明名称 多层印刷配线板之制造方法
摘要 发明之目的:成为在积层基板内具有与电子零组件同等功能的印刷配线板。发明之构成:在内层基板2之孔部填充介质糊剂6与电阻糊剂7之后,并利用电镀层13来封闭这些糊剂,且将与电容器,电阻器同等功能埋入于内层基板2内。在积层于内层基板2的外层基板2,3之孔部填充介质糊剂6a与电阻体糊剂7a之后,并利用电镀层17来封闭这些糊剂,且将与电容器,电阻器同等功能埋入积层基板。
申请公布号 TW234235 申请公布日期 1994.11.11
申请号 TW082105197 申请日期 1993.06.29
申请人 CMK股份有限公司 发明人 小岛干矢;白井纯三郎;尾留川房雄;松本满寿雄;高桥高
分类号 H05K3/46 主分类号 H05K3/46
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种多层印刷配线板之制造方法,其特征为:在贯穿所积层之至少两片基板所形成的孔部或在贯穿至少一片基板所形成的孔部填充电阻体糊剂或介质糊剂之后,以电镀层封闭这些糊剂者。2.一种多层印刷配线板之制造方法,其特征为具备:在形成于第一基板之孔部填充电阻体糊剂或介质糊剂之后,封闭这些糊剂的过程,及在上述第一基板积层至少一片第二基板,而在该第二基板形成孔部的过程,及在第二基板之孔部与在两基板间相连通之孔部内填充电阻体糊剂或介质糊剂之后,以电镀层封闭这些糊剂的过程者。3.一种多层印刷配线板之制造方法,其特征为具备:在形成于第一基板之孔部填充电阻体糊剂或介质糊剂之后,以电镀层封闭这些糊剂的过程,及在至少一片之第二基板形成孔部之后,积层于上述第一基板的过程,及在第二基板之孔部与在两基板间相连通之孔部内填充电阻体糊剂或介质糊剂之后,以电镀层封闭这些糊剂的过程等。4.一种多层印刷配线板之制造方法,其特征为:除去所积层之至少两片基板内至少一片之基板的导体层之后,在各该除去部分填充电阻体糊剂或介质糊剂,并以电镀层封闭所填充之糊剂之后,部分地除去糊剂上之电镀层者。5.如申请专利范围第1项或第2项、第3项、第4项中之任何一项所述的多层印刷配线板之制造方法,其中,在施行上述电镀层之前,形成直至与基板面成为同一面为止研磨电阻体糊剂或介质糊剂者。6.如申请专利范围第1项或第2项、第3项、第4项中之任何一项所述的多层印刷配线板之制造方法,其中,在施行上述电镀层之后,将各该电镀层作为电路者。7.如申请专利范围第1项或第2项、第3项、第4项中之任何一项所述的多层印刷配线板之制造方法,其中,在上述电镀层实装电子零组件者。第1图系表示本发明之一实施例之制造过程的方块图,第2图系表示内层基板的剖面图,第3图系表示加工内层基板的剖面图,第4图系表示加工内层基板的剖面图,第5图系表示加工内层基板的剖面图,第6图系表示加工内层基板的剖面图,第7图系表示加工内层基板的剖面图,第8图系表示内层基板与外层基板之积层前的剖面图,第9图系表示内层基板与外层基板之积层后的剖面图,第10图系表示积层后之加工的剖面图,第11图系表示积层后之加工的剖面图,第12图系表示积层后之加工的剖面图,第13图系表示积层后之加工的剖面图,第14图系表示本发明之一实施例之多层印刷配线板的剖面图,第15图系表示本发明之其他实施例之多层印刷配线板的剖面图,第16图系表示本发明之另一实施例的部
地址 日本
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